Descubra un mundo completamente nuevo de información con el espectrómetro de emisión óptica de descarga luminiscente GD-OES.

El GD-Profiler 2 ™ proporciona un análisis rápido y simultáneo de todos los elementos de interés, incluyendo gases como nitrógeno, oxígeno, hidrógeno y cloro.

Es la herramienta ideal para estudios de procesos y caracterización de películas delgadas y gruesas. Equipado con una fuente de RF que puede operar en modo pulsado para el análisis de muestras frágiles.

El campo de aplicaciones del GD-Profiler 2 ™ va desde estudios de corrosión hasta control de proceso de recubrimiento PVD, incluyendo películas delgadas de celdas fotovoltaicas y control de calidad en fabricación de LEDs e investigación avanzada de materiales en Universidades, así como en laboratorios de Investigación Industrial. también aplica para el análisis elemental en la industria de metales.

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• Generador de RF estándar de Clase E optimizado para tener estabilidad y  forma del cráter, que hace posible un análisis de superficie real.
• El Generador RF se puede pulsar con adquisición sincronizada para obtener resultados óptimos en muestras frágiles.
• El uso de una fuente de RF permite el análisis de capas y materiales convencionales y/o no convencionales. así como conductores y no conductores de electricidad.
• Su óptica simultánea proporciona una cobertura espectral completa de 110 a 800 nm, incluido el ultravioleta profundo para el  análisis de H, O, C, N y Cl.
• Rejillas o Grating de difracción originales de HORIBA aseguran el mayor rendimiento y resolución de luz para una máxima eficiencia y sensibilidad.
• Sistema de detección HDD patentada que proporciona velocidad y sensibilidad en la detección sin comprometer el desempeño del sistema.
• Medición en línea de la profundidad del cráter y la tasa de erosión con interferómetro incorporado patentado.
• Compartimento de muestras de fácil acceso que ofrece mucho espacio para manipular las muestras.
• Potente software QUANTUM ™ con herramienta de redacción de informes Tabler.
• Puntero láser CenterLite (patente pendiente) para la carga precisa de la muestra.
• Opción de monocromador disponible solo en HORIBA, proporciona la herramienta perfecta para aumentar la flexibilidad del instrumento agregando "n + 1" elementos. 

ICP-OES asequible de alto rendimiento.

HORIBA Scientific desarrolla y fabrica espectrómetros ICP-OES de alto rendimiento desde hace más de 35 años. La nueva Ultima Expert LT proporciona muy alto rendimiento a un precio asequible para laboratorios con muestras y aplicaciones desafiantes.

Integra un diseño óptico Jobin Yvon de alta eficiencia capaz de lograr el mejor rendimiento óptimo para cualquier tipo de muestras y matrices. 

El Ultima Expert LT es potencializado por el poderoso software NEO, que presenta una gran variedad de funcionalidades analíticas para un control y análisis personalizados.

La robustez de Ultima Expert LT lo hace ideal para aplicaciones comunes en minería, fabricación de productos químicos, producción de sal, metales de desgaste en análisis de aceites, producción petroquímica y metalúrgica etc.

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• Visualización radial y visualización de plasma total que proporcionan los límites de detección más bajos en espectrometría ICP-OES
• Característica única de gas envolvente para una estabilidad inigualable en muestras con alto contenido de sólidos disueltos totales, hasta un 30% de sólidos disueltos
• Cobertura de longitud de onda continua de 120 a 800 nm con opción de UV lejano para mejorar la sensibilidad para el análisis de halógenos o longitudes de onda alternativas
• Resolución espectral inigualable que minimiza las interferencias con <5 pm para longitudes de onda en el rango de 120-320 nm

Horiba Scientific ofrece soluciones completas de espectroscopia Raman para mediciones analíticas, investigación Raman, UV Raman, QC / QA y aplicaciones industriales Raman.

Estos incluyen microscopios Raman, sistemas híbridos Raman (como AFM-Raman), sistemas  modulares Raman, analizadores de transmisión Raman, espectrómetros Raman dedicados de proceso in situ e instrumentos miniaturizados Raman, para fabricación de OEM de gran volumen. producción en todo el mundo.

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APLICACIONES PRINCIPALES

• Microfotoluminiscencia.
• Nanotubos de Carbono.
• Mapeo de Nanomateriales.
• Fotoluminiscencia y Raman de diodos AlGaAs / InGaAs.
• Semiconductores.
• Fotoluminiscencia en Baja Temperatura

Técnica de perfilado de profundidad ultrarrápida, sensible y de alta resolución.

Plasma Profiling TOFMS plantea las necesidades de los científicos de materiales en una amplia gama de áreas de aplicación. PP-TOFMS proporciona una rápida distribución de profundidad elemental de cualquier material inorgánico.

La velocidad y la facilidad de uso de PP-TOFMS permiten reducir el tiempo de optimización de los procesos de crecimiento, ya que muchos investigadores se esfuerzan por reducir el tiempo desde el descubrimiento hasta la aplicación de nuevos materiales. La cobertura total simultánea de TOFMS disponible para cada punto de profundidad permite la detección de contaminación no sospechada. Esto es clave para el análisis de fallas y la optimización de procesos de película delgada que tienden a no basarse en métodos de grado ultra alto (es decir, impresión por chorro de tinta).

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• Compacto.
• Rápido.
• Fácil de Usar.
• Aplicación general en ciencia de materiales.
• Multi usuario.

High resolution, high sensitivity and high stability ICP-OES.

Última Expert posee un diseño óptico “Jobin Yvon” de alta eficiencia, capaz de alcanzar un rendimiento óptimo para una gran variedad de muestras y matrices.

Incluye un software de análisis con una variedad de funcionalidades, que permiten tener mayor control además de poder personalizarlo si se desea. 

Es el instrumento ideal para las aplicaciones a la minería, fabricación de químicos, la producción de sal, metales de desgaste de  en el análisis de aceites, la producción petroquímica, metalúrgica y refinado de metales preciosos.  

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• El Ultima Expert ofrece el rendimiento más alto del mercado, es especialmente diseñado para manejar las    aplicaciones más desafiantes.
• Su diseño óptico de alta calidad integra una rejilla holográfica de alta densidad y una distancia focal de un metro asociada a la característica única de Vista total del plasma, ofrece la resolución más alta del mercado, junto a una altísima sensibilidad y estabilidad especial para las aplicaciones más exigentes.
• Visualización radial y total  del plasma que proporcionan los límites de detección más bajos en espectrometría ICP OES.
• Característica única de gas envolvente para una estabilidad inigualable en muestras con alto contenido de sólidos disueltos totales, incluso con hasta un 30% de sólidos disueltos.
• Rango Espectral de 120 a 800 nm con opción de UV lejano para mejorar la sensibilidad para el análisis de halógenos o  longitudes de onda alternativas.
• Resolución espectral inigualable que minimiza las interferencias con <5 pm para longitudes de onda en el rango de    120-320 nm.
• Sistema de rejilla dual opcional, que ofrece una resolución de <6pm hasta 450 nm para matrices ricas en líneas como elementos de tierras raras, aplicaciones geológicas o de metales preciosos.
• Dispositivo HiStab único para lograr una estabilidad excepcional para aplicaciones exigentes.
• Detección HDD® patentada que proporciona sub-ppb a nivel de porcentaje en un solo análisis
• Rango dinámico de hasta 10 órdenes de magnitud usando Image
• Policromador opcional de 0,5m o 1 m para análisis simultáneo.