X-ray Analytical Microscope.

La evolución de μXRF!,  con sensibilidad mejorada y nueva tecnología de imagen, es una combinación que logra el análisis a alta velocidad de muchos materiales en una sola unidad.

Ver Más

• Operación de análisis simple sin necesidad de preparaciones complejas y análisis elemental no destructivo.
• Permite acceder rápidamente a los puntos de medición  a través de una observación óptica de alta precisión, incluso en el rango microscópico.
• Un  software muy completo con una gran variedad de herramientas   para el  análisis de imágenes.

Descubra un mundo completamente nuevo de información con el espectrómetro de emisión óptica de descarga luminiscente GD-OES.

El GD-Profiler 2 ™ proporciona un análisis rápido y simultáneo de todos los elementos de interés, incluyendo gases como nitrógeno, oxígeno, hidrógeno y cloro.

Es la herramienta ideal para estudios de procesos y caracterización de películas delgadas y gruesas. Equipado con una fuente de RF que puede operar en modo pulsado para el análisis de muestras frágiles.

El campo de aplicaciones del GD-Profiler 2 ™ va desde estudios de corrosión hasta control de proceso de recubrimiento PVD, incluyendo películas delgadas de celdas fotovoltaicas y control de calidad en fabricación de LEDs e investigación avanzada de materiales en Universidades, así como en laboratorios de Investigación Industrial. también aplica para el análisis elemental en la industria de metales.

Ver Más

• Generador de RF estándar de Clase E optimizado para tener estabilidad y  forma del cráter, que hace posible un análisis de superficie real.
• El Generador RF se puede pulsar con adquisición sincronizada para obtener resultados óptimos en muestras frágiles.
• El uso de una fuente de RF permite el análisis de capas y materiales convencionales y/o no convencionales. así como conductores y no conductores de electricidad.
• Su óptica simultánea proporciona una cobertura espectral completa de 110 a 800 nm, incluido el ultravioleta profundo para el  análisis de H, O, C, N y Cl.
• Rejillas o Grating de difracción originales de HORIBA aseguran el mayor rendimiento y resolución de luz para una máxima eficiencia y sensibilidad.
• Sistema de detección HDD patentada que proporciona velocidad y sensibilidad en la detección sin comprometer el desempeño del sistema.
• Medición en línea de la profundidad del cráter y la tasa de erosión con interferómetro incorporado patentado.
• Compartimento de muestras de fácil acceso que ofrece mucho espacio para manipular las muestras.
• Potente software QUANTUM ™ con herramienta de redacción de informes Tabler.
• Puntero láser CenterLite (patente pendiente) para la carga precisa de la muestra.
• Opción de monocromador disponible solo en HORIBA, proporciona la herramienta perfecta para aumentar la flexibilidad del instrumento agregando "n + 1" elementos. 

Horiba Scientific ofrece soluciones completas de espectroscopia Raman para mediciones analíticas, investigación Raman, UV Raman, QC / QA y aplicaciones industriales Raman.

Estos incluyen microscopios Raman, sistemas híbridos Raman (como AFM-Raman), sistemas  modulares Raman, analizadores de transmisión Raman, espectrómetros Raman dedicados de proceso in situ e instrumentos miniaturizados Raman, para fabricación de OEM de gran volumen. producción en todo el mundo.

Ver Más

APLICACIONES PRINCIPALES

• Microfotoluminiscencia.
• Nanotubos de Carbono.
• Mapeo de Nanomateriales.
• Fotoluminiscencia y Raman de diodos AlGaAs / InGaAs.
• Semiconductores.
• Fotoluminiscencia en Baja Temperatura

Analizador de fluorescencia de rayos X.

HORIBA ha vendido la serie XGT-WR de analizadores EDXRF durante muchos años, proporcionando mediciones de detección de muestras que contienen elementos peligrosos como Pb, Cd, Hg, Cr, Br, Sb, As para RoHS, ELV y Cl en  aplicaciones libres de halógenos.

HORIBA ha desarrollado ahora el nuevo analizador MESA-50 EDXRF, basado en su larga experiencia en los requisitos y necesidades de los clientes. El MESA-50 proporciona un funcionamiento sencillo y excelente rendimiento, incluye tres diámetros de análisis, adecuados para diferentes muestras, desde cables delgados y piezas electrónicas hasta muestras a granel. 

Ver Más

• Rápido:

El de silicio (SDD) reduce drásticamente los tiempos de medición y proporcionando mayor sensibilidad para el análisis de alto rendimiento

• Pequeño:

De tamaño reducido y liviano

Fuente de alimentación con batería interna.

• Sencillo:

Mantenimiento de rutina reducido. (No requiere LN2) ni bomba de vacío, proceso de medición sencillo e intuitivo. 

• Inteligente:

Interfaces de usuario multilenguaje.

Herramienta de gestión de datos Excel®

• Seguro:

No se preocupe por las fugas de rayos X.

Técnica de perfilado de profundidad ultrarrápida, sensible y de alta resolución.

Plasma Profiling TOFMS plantea las necesidades de los científicos de materiales en una amplia gama de áreas de aplicación. PP-TOFMS proporciona una rápida distribución de profundidad elemental de cualquier material inorgánico.

La velocidad y la facilidad de uso de PP-TOFMS permiten reducir el tiempo de optimización de los procesos de crecimiento, ya que muchos investigadores se esfuerzan por reducir el tiempo desde el descubrimiento hasta la aplicación de nuevos materiales. La cobertura total simultánea de TOFMS disponible para cada punto de profundidad permite la detección de contaminación no sospechada. Esto es clave para el análisis de fallas y la optimización de procesos de película delgada que tienden a no basarse en métodos de grado ultra alto (es decir, impresión por chorro de tinta).

Ver Más

• Compacto.
• Rápido.
• Fácil de Usar.
• Aplicación general en ciencia de materiales.
• Multi usuario.

Analizador de fluorescencia de rayos X

Con el fin de cumplir con las  RoHS/ELV y el análisis de  elementos peligrosos, HORIBA en el  2012, lanzó el  analizador de fluorescencia de rayos X intuitivo MESA-50.

El cual se hizo muy popular en muy poco tiempo, y en 2013 se agregó a la serie un nuevo tipo de MESA-50 con una cámara de muestra muy amplia que permite el análisis de muestras de gran tamaño. 

El MESA-50K está equipado con el sofisticado detector libre de LN2, la función de análisis As / Sb y de película multicapa FPM disponibles como opciones.

Ver Más

• Rápido:

El de silicio (SDD) reduce drásticamente los tiempos de medición y proporcionando mayor sensibilidad para el análisis de alto rendimiento

• Pequeño:

De tamaño reducido y liviano

Fuente de alimentación con batería interna.

• Sencillo:

Mantenimiento de rutina reducido. (No requiere LN2) ni bomba de vacío, proceso de medición sencillo e intuitivo. 

• Inteligente:

Interfaces de usuario multilenguaje.

Herramienta de gestión de datos Excel®

• Seguro:

No se preocupe por las fugas de rayos X.