La elipsometría espectroscópica permite caracterizar propiedades ópticas y espesores de películas delgadas mediante mediciones de cambios de polarización de la luz reflejada. Se aplica en investigación de materiales, semiconductores y nanotecnología para estudiar propiedades dieléctricas, índices de refracción y uniformidad de capas. Los resultados facilitan diseño de dispositivos, control de calidad y optimización de procesos de deposición de películas, asegurando precisión y reproducibilidad.