EMISIÓN ÓPTICA GD-OES

HORIBA Scientific proporciona los espectrómetros para análisis superficial, perfiles de profundidad y el análisis de composición tanto de muestras conductoras como no conductoras, esto gracias a la fuente de radiofrecuencia de descarga luminiscente (RF-GD-OES). RF Glow Discharge Optical Emission Spectrometry (GD-OES) es una técnica reconocida para aplicaciones que involucran análisis superficial, la interacción de elementos en materiales y recubrimientos, así como la composición química de los materiales. Permite obtener perfiles de profundidad de múltiples elementos, incluyendo gases con excelente resolución de profundidad y sensibilidad.

El GD-Profiler 2™ proporciona rápido análisis y simultáneo de todos los elementos de interés, incluyendo los gases de nitrógeno, oxígeno, hidrógeno y Cloro. Es una herramienta ideal para caracterización de películas delgadas y estudios de proceso.


PLASMA PROFILE TOFMS ™

Este nuevo instrumento combina la velocidad del proceso de erosión Catódica del plasma GD con la rapidez y sensibilidad de un espectrómetro de masas. Proporciona la composición química en función de la profundidad de materiales sólidos. Esta técnica de análisis de perfiles de profundidad consiste en una fuente de plasma de descarga luminiscente erosiona y ioniza material de la muestra acoplado a un ultra rápido espectrómetro de masas.

El PLASMA PROFILE TOFMS ™ ofrece una mayor sensibilidad que la GD-OES y ofrece perfiles isotópicos y moleculares


CARACTERÍSTICAS

  • Fácil de usar (no requiere alto vacío)
  • Velocidad de erosión en micrones/minuto.
  • Muestras conductoras o no conductoras y recubrimientos.
  • Cuantificación de Perfiles de Profundidad.
  • Cuantificación simultánea en todos los elementos, incluyendo H, O, N y Cl.
  • Resolución de profundidad 1 nm.
  • Modo pulsado de RF para muestras y capas frágiles.
  • Cumplimiento de ISO 14707 Y 16962.

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GD-Profiler 2™

Availability: Out of stock

Discover a Whole New World of Information with Glow Discharge Optical Emission Spectrometer - Descubra un mundo completamente nuevo de información con el espectrómetro de emisión óptica de descarga luminiscente GD-OES.

El GD-Profiler 2 ™ proporciona un análisis rápido y simultáneo de todos los elementos de interés, incluyendo gases como nitrógeno, oxígeno, hidrógeno y cloro. Es la herramienta ideal para estudios de procesos y caracterización de películas delgadas y gruesas. Equipado con una fuente de RF que puede operar en modo pulsado para el análisis de muestras frágiles.

El campo de aplicaciones del GD-Profiler 2 ™ va desde estudios de corrosión hasta control de proceso de recubrimiento PVD, incluyendo películas delgadas de celdas fotovoltaicas y control de calidad en fabricación de LEDs e investigación avanzada de materiales en Universidades, así como en laboratorios de Investigación Industrial. también aplica para el análisis elemental en la industria de metales.

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Plasma Profiling TOFMS

Availability: Out of stock

Ultra-Fast, Sensitive and High Resolution Depth Profiling technique - Técnica de perfilado de profundidad ultrarrápida, sensible y de alta resolución.

Plasma Profiling TOFMS plantea las necesidades de los científicos de materiales en una amplia gama de áreas de aplicación. PP-TOFMS proporciona una rápida distribución de profundidad elemental de cualquier material inorgánico. La velocidad y la facilidad de uso de PP-TOFMS permiten reducir el tiempo de optimización de los procesos de crecimiento, ya que muchos investigadores se esfuerzan por reducir el tiempo desde el descubrimiento hasta la aplicación de nuevos materiales. La cobertura total simultánea de TOFMS disponible para cada punto de profundidad permite la detección de contaminación no sospechada. Esto es clave para el análisis de fallas y la optimización de procesos de película delgada que tienden a no basarse en métodos de grado ultra alto (es decir, impresión por chorro de tinta).

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